滲源純水機的組成部分和應用范圍 滲源超純水設備一般由以下幾個(gè)部分構成: 前處理系統:包括原水箱、原水進(jìn)水泵、砂濾器、炭濾器、軟化器等,用于去除水中的懸浮顆粒、有機物
為何需要實(shí)驗室純水機純水機的使用注意事項 為何需要實(shí)驗室純水機: 實(shí)驗室純水機在許多實(shí)驗室中都是重要的設備,特別是在進(jìn)行精密化學(xué)分析、生物研究、醫療檢測等實(shí)驗時(shí)。 首
講解如何選擇實(shí)驗室所需要的純水或超純水
工業(yè)用水的標準及純水機的重要作用 隨著(zhù)工業(yè)的快速發(fā)展,對工業(yè)用水的標準及要求變得越來(lái)越高。工業(yè)用水不僅需要穩定、安全,還需符合生產(chǎn)工藝要求,以保障工業(yè)生產(chǎn)的正常運行
實(shí)驗動(dòng)物飲用水標準及其重要性 實(shí)驗動(dòng)物飲用水是實(shí)驗動(dòng)物生存的基本需求之一,對于實(shí)驗結果的準確性和可靠性也有著(zhù)重要的影響。因此,達到國家規定的實(shí)驗動(dòng)物飲用水標準,對于
為什么實(shí)驗室純水不能喝?
實(shí)驗室EDI超純水機有哪些優(yōu)點(diǎn)?EDI全稱(chēng)Eioctro daioniza ion,也叫連續電去離子、填充床電滲析或電除鹽,現在這項技術(shù)已經(jīng)廣泛應用于純水,超純水設備中,通過(guò)采用電滲析技術(shù)和離子交換
新春盛會(huì ),3月底,滲源純水連續參加兩場(chǎng)國內知名的科教儀器展——2023成都國際分析測試及實(shí)驗室裝備技術(shù)博覽會(huì )(Cials)和2023第11屆華中科教裝備展,兩大展會(huì )現場(chǎng)熱鬧非凡,滲源在展
我國現行低壓鍋爐水質(zhì)標準為GB1576—1996,以水為介質(zhì)的固定式蒸汽鍋爐和汽水兩用鍋爐,也適用于以水為介質(zhì)的固定式承壓熱水鍋爐和常壓熱水鍋爐。
滲源”成功榮獲2023年度“實(shí)驗室純水機十大品牌”的稱(chēng)號,2023年3月31日,歷史大半個(gè)月的2022年度純水設備行業(yè)十大品牌評選活動(dòng)線(xiàn)上投票正式結束,“滲源”作為純水設備行業(yè)中的佼
玻璃基板材料主要應該在電子設備上面,比如手機、電腦、液晶電商、相機等等,玻璃基板在這些設備上面都有著(zhù)非常多的應用。在生產(chǎn)玻璃基板時(shí)對質(zhì)量的把控,其中離不開(kāi)超純水。
光電光學(xué)玻璃用超純水設備主要是在玻璃清洗的時(shí)候為超聲波清洗進(jìn)行供水,確保產(chǎn)水水質(zhì)在18.2MΩ.cm,從而滿(mǎn)足試驗用水需求,這是因為在光電光學(xué)的玻璃行業(yè)中,通過(guò)超聲波清洗鏡片
隨著(zhù)我國的工業(yè)發(fā)展,目前新材料的應用上我國已經(jīng)有很多領(lǐng)域開(kāi)始在應用,其中就有磷酸鐵鋰、石墨烯、碳酸鋰等等,他們的純水要求最終終端出水水質(zhì)達到≥15MΩ*cm(25℃)以上。
化工是當今化學(xué)工業(yè)的新型領(lǐng)域,涉及領(lǐng)域廣泛,化工產(chǎn)品包括了大致11個(gè)品類(lèi):農藥、染料、涂料、顏料、試劑盒高純物,信息用化學(xué)品、食品和飼料添加劑、粘合劑、催化劑和各種助
鍋爐補給水的水質(zhì)要求十分嚴格,一般情況下都是采用混凝、沉淀、過(guò)濾等方式進(jìn)行處理后,再通過(guò)離子交換、反滲透、電滲析等技術(shù)進(jìn)行軟化和除鹽,從而使得鍋爐補給水的水質(zhì)穩定
低有機物超純水機是實(shí)驗室重要的儀器設備,被運用到容器的清洗、樣品制備、緩沖液制備、為其他儀器直接供水等方面。主機全塑模具設計,外觀(guān)精美,工藝精巧,流線(xiàn)型設計,大氣
滲源SYZ超純水系統應用了雙級反滲透+多級純化系統的處理工藝,生產(chǎn)水質(zhì)穩定電阻率高達18.2MΩ.cm。得益于滲源最先進(jìn)的一體化技術(shù)工藝,該系統的維護和運行成本低。人性化的設計,一
鋰電池行業(yè)用超純水包括蓄電池生產(chǎn)用超純水,鋰電池生產(chǎn)用超純水,太陽(yáng)能電池生產(chǎn)用超純水,蓄電池格板用超純水。電池中電解液的配備對純水要求十分嚴格,通常要求水的電導率在
電鍍涂裝行業(yè)中,為了增加鍍件表面光潔度、亮度、附著(zhù)力,電鍍液的配制需要用電導率在15uS/cm以下的純水;另外在鍍件漂洗時(shí)也需用電導率在10uS/cm以下電鍍純水來(lái)清洗。
電子半導體超凈高純(VLSD) 試劑是大規模集成電路(IC) 及高檔半導體器件制造過(guò)程的專(zhuān)用化學(xué)品,主要用于硅單晶片的清洗、光刻、腐蝕工序中,它的純度和潔凈度對集成電路的成品率、